Źródło magnetronowe MS2 63C1 dla depozycyjnych procesów sputteringowych.
Idealnie nadaje się do każdego nowego lub zmodernizowanego wielokomorowego systemu rozpylania magnetronowego, jak i do pojedynczych, małych próżniowych komór depozycyjnych.
Dowiedz się więcej na stronie produktu lub pobierz broszurę.
Ważne:
strona wykorzystuje pliki cookies.
Używamy informacji zapisanych w plikach cookies m.in. w celach statystycznych oraz w celu dopasowania serwisu do indywidualnych potrzeb użytkownika. W programie służącym do obsługi internetu możesz zmienić ustawienia dotyczące akceptowania plików cookies.
Korzystanie ze strony bez zmiany ustawień dotyczących plików cookies oznacza, że będą one zapisane w pamięci urządzenia. Więcej informacji, wraz ze wskazówkami dotyczącymi zmiany ustawień, można znaleźć w Polityce prywatności
